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MEMS加工 - 镀膜
镀膜一般是在真空环境下,将某种金属或非金属以气相的形式沉积到材料表面,形成一层致密的薄膜,镀膜质量对半导体器件的功能形成至关重要。苏州博研掌握电子束蒸发、磁控溅射、LPCVD、PECVD、原子层沉积等多种镀膜技术。
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产品介绍
案例展示
镀膜材料:
● 金属:Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、TiW90、Pd、Zn、Mo、W、Ta 、Nb等
● 非金属:Si、SiO2、SiNx、Al2O3、HFO2、MgF2、ITO、Ta2O5等
镀膜基底:
● 硅片、石英玻璃片、蓝宝石片、PET、Pi等
镀膜技术:
● 电子束蒸发、磁控溅射、LPCVD、PECVD、ALD原子层沉积等
SiNx薄膜(蓝色)
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