公司新闻-苏州博研微纳|MEMS代工与微纳加工专家-提供半导体材料及MEMS定制化解决方案

刻蚀在微纳制造工艺中的作用

2025/06/18

1、引言微纳制造技术是当今半导体、MEMS（微机电系统）、光电子器件等领域的关键支撑技术，而刻蚀（Etching）作为微纳制造的核心工艺之一，直接影响器件的精度、性能和可靠性。光...

半导体衬底材料：现代电子技术的隐形支柱

2025/06/11

半导体技术是现代电子工业的基石，而半导体衬底材料则是这一技术的核心基础。无论是智能手机、计算机、汽车电子，还是人工智能和5G通信，都依赖于高质量的半导体衬底。那么，半...

微纳加工的核心工艺解析

2025/06/06

微纳加工技术是现代微电子、光电子和微机电系统（MEMS）等领域的基础制造技术，其核心工艺包括光刻、镀膜、键合、刻蚀、减薄抛光、切割打孔和掺杂等。这些工艺相互配合，共同实...

2025/06/04

引言半导体微纳加工技术是当今信息技术和电子工业的核心驱动力。从智能手机到高性能计算机，从物联网设备到人工智能芯片，几乎所有现代电子产品的核心都依赖于半导体微纳加工...

2025/05/28

在当今信息化时代，集成电路（IC）已成为现代科技的基础，而光刻版（Photomask或Reticle）作为半导体制造中的关键元件，扮演着不可或缺的角色。光刻版是微电子制造过程中的模板，通...

2025/05/22

电子束光刻在MEMS加工中的关键作用在现代微纳加工领域，电子束光刻(Electron Beam Lithography, EBL)作为一项高端技术，已成为MEMS加工中不可或缺的核心工艺。与传统的紫外光刻相比，电子束...

2025/05/14

引言随着微机电系统（MEMS）技术的快速发展，氮化硅（Si₃N₄）薄膜窗格因其优异的机械强度、化学稳定性和光学性能，在MEMS芯片中扮演着至关重要的角色。本文将探讨氮化硅薄膜窗...

2025/05/26

引言：光刻掩膜板的技术地位与市场价值在半导体制造和微纳加工领域，光刻掩膜板（Photomask）被誉为芯片制造的蓝图，其精度直接决定了7nm、5nm等先进制程芯片的性能。随着中国半导...

2025/05/09

引言微机电系统（MEMS）加工技术在现代传感器、执行器、射频器件等领域发挥着关键作用。其中，薄膜沉积工艺是MEMS制造的核心环节之一，而磁控溅射镀膜因其高沉积速率、优异薄膜...