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公司新闻
2025/04/25
离子注入:MEMS微纳加工中的精密掺杂技术
引言:离子注入在MEMS制造中的关键作用 在MEMS晶圆代工和半导体制造中,离子注入技术是实现精密掺杂的核心工艺之一。通过高能离子束对半导体材料进行选择性掺杂,可以精准控制材...
2025/04/23
半导体材料与微纳加工:推动现代电子技术革新的核心动力
在当今信息技术飞速发展的时代,半导体材料与微纳加工技术已成为推动电子产业进步的两大支柱。从智能手机到物联网设备,从医疗检测到航空航天,这些技术的应用无处不在。本文...
2025/04/17
聚焦离子束刻蚀技术在微纳加工中的应用与进展
微纳加工技术是当今先进制造领域的核心技术之一,广泛应用于半导体微纳加工、MEMS(微机电系统)加工、光学器件及纳米材料制备等领域。其中,聚焦离子束(Focused Ion Beam, FIB)刻蚀...
传统集成电路代工和mems代工模式的差异
2021/07/14
在人工智能的崛起威胁到流程驱动型工作岗位的同时,菲律宾呼叫中心行业希望今年能创造出多达7万个工作岗位和10亿美元的额外收入。 菲律宾联络中心协会(CCAP)主席路易斯·本尼迪...
光刻加工基础
2021/07/16
MEMS代工中光刻工艺的重要性,光刻加工的重要性可以通过两种方式来理解。首先,由于集成电路制造中需要大量的光刻步骤,光刻加工通常占制造成本的30%左右。其次,光刻加工趋向...
MEMS代工的灵活性的表现有哪些?
2021/07/16
随着科学技术和人类需求的发展,MEMS代工和MEMS技术的应用变得更加多样化。传感器和执行器已广泛应用于各个领域,并已集成到许多应用中,例如汽车工业,生物医学治疗,消费电子,...
光刻加工的其他技术
2021/07/16
在光刻加工中,扫描探针光刻(SPL) 是另一组使用扫描探针在纳米级图案化到单个原子的技术,通过蚀刻掉不需要的材料,或直接将新材料写入基板上。该类别中的一些重要技术包括蘸笔...
光刻加工的好处
2021/07/16
特征尺寸 在光刻加工中这通常称为最小特征尺寸或临界尺寸 (CD),它是设计的最小部分。可实现的 CD 取决于您使用的光刻类型和您正在图案化的表面的拓扑结构。 对齐 对齐是指两层相...
MEMS加工发展及展望
2021/07/16
自20世纪90年代以来,微流控芯片技术的出现极大促进了微型化操作和分析方法的研究进展。尽管微流控技术只经历了短短30年的发展,其已经从最初单纯的毛细管电泳的微型化技术,演...
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