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公司新闻
2026/03/06
为什么MEMS器件偏爱SOI片?浅谈SOI在键合与掺杂中的优势
在MEMS的世界里,小巧而强大是核心追求从手机里的加速度传感器,到医疗领域的微型超声换能器,再到航天设备中的惯性导航器件,这些毫米甚至微米级的器件,对基底材料的要求近乎...
2026/02/28
微纳加工核心揭秘:光刻工艺,方寸之间的“雕刻魔法”
很多人对光刻工艺的认知局限于“曝光显影”,实则它是集光学、化学、材料学于一体的精密过程。其核心任务,是利用曝光和显影技术在光刻胶层刻画预设图形,再通过刻蚀工艺将光...
2026/02/10
刻蚀工艺的关键挑战:选择比、均匀性与损伤控制
刻蚀作为半导体制造中图形转移的核心工序,如同精细的微观雕刻,需将光刻定义的图案精准复刻至衬底材料,其工艺精度直接决定器件性能与良率。随着摩尔定律持续推进,器件线宽...
光刻掩膜板:微纳加工的核心,国产替代的关键突破
2025/05/26
引言:光刻掩膜板的技术地位与市场价值 在半导体制造和微纳加工领域,光刻掩膜板(Photomask)被誉为芯片制造的蓝图,其精度直接决定了7nm、5nm等先进制程芯片的性能。随着中国半导...
磁控溅射镀膜:MEMS加工中的高精度薄膜制备利器
2025/05/09
引言 微机电系统(MEMS)加工技术在现代传感器、执行器、射频器件等领域发挥着关键作用。其中,薄膜沉积工艺是MEMS制造的核心环节之一,而磁控溅射镀膜因其高沉积速率、优异薄膜...
离子注入:MEMS微纳加工中的高精度掺杂技术
2025/05/09
引言:离子注入在MEMS制造中的关键作用 在MEMS晶圆代工和半导体制造中,离子注入技术是实现高精度掺杂的核心工艺之一。通过高能离子束对半导体材料进行选择性掺杂,可以精准控制...
半导体材料与微纳加工:推动现代电子技术革新的核心动力
2025/04/23
在当今信息技术飞速发展的时代,半导体材料与微纳加工技术已成为推动电子产业进步的两大支柱。从智能手机到物联网设备,从医疗检测到航空航天,这些技术的应用无处不在。本文...
光刻工艺:微纳加工与MEMS制造的核心技术
2025/05/09
在当今高科技产业中,微纳加工技术是半导体、MEMS(微机电系统)等领域的基础,而光刻工艺则是微纳加工的核心环节之一。光刻技术通过将掩膜版(光刻版)上的图形高精度转移到硅...
镀膜工艺有哪几种?应用在哪些领域?
2025/04/01
镀膜工艺是一种通过物理或化学方法在材料表面沉积一层或多层薄膜的技术,以改变基材的表面性能(如光学、电学、机械、耐腐蚀等)。以下是主要镀膜工艺及其应用领域的详细介绍...
刻蚀工艺及其在MEMS加工中的应用
2025/03/26
1. 刻蚀工艺概述 刻蚀(Etching)是微纳加工中的关键工艺,用于选择性去除材料,从而在基底上形成精细结构。根据实现方式,刻蚀主要分为湿法刻蚀和干法刻蚀两大类。 湿法刻蚀利用...
微纳加工与MEMS技术:开启智能制造新时代
2025/03/20
在智能制造和物联网时代,微纳加工与MEMS(微机电系统)技术正成为推动产业升级的核心力量。作为一家深耕微纳加工与MEMS技术的高科技企业,我们始终站在技术创新的前沿,致力于为...
光刻板是啥?【光刻板的用途】
2022/07/09
博研相信大家应该都清楚,芯片制造是一个极为复杂的过程,且随着制程的进步,芯片制造的步骤也在不断增加。 但无论芯片的步骤如何增加,芯片制造的第一步都必定是光刻,也就是...
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