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公司新闻
2026/04/16
各向同性 vs 各向异性:湿法刻蚀与干法刻蚀的本质区别
在微纳加工领域,刻蚀是实现材料图形化的核心工艺,其本质是通过物理或化学方式选择性去除材料的特定部分。湿法刻蚀与干法刻蚀作为两种主流技术,根本的差异的在于刻蚀的方向...
2026/04/09
难刻蚀材料解决方案:离子束刻蚀(IBE)在金属等物质加工中的优势
在现代制造业向精密化、微型化升级的过程中,金属、陶瓷等难刻蚀材料的加工难题日益凸显。这类材料通常具备高硬度、高化学稳定性等特点,传统刻蚀技术要么无法实现精准加工,...
2026/04/02
刻蚀均匀性差?可能是掩膜版与光刻胶选型出了问题
在微纳加工制造中,刻蚀均匀性是决定器件性能与产品良率的核心指标之一。刻蚀均匀性不佳会导致器件尺寸偏差、电学性能不稳定,甚至批量产品失效,给生产带来不必要的损失。很...
光刻加工基础
2021/07/16
MEMS代工中光刻工艺的重要性,光刻加工的重要性可以通过两种方式来理解。首先,由于集成电路制造中需要大量的光刻步骤,光刻加工通常占制造成本的30%左右。其次,光刻加工趋向...
MEMS代工的灵活性的表现有哪些?
2021/07/16
随着科学技术和人类需求的发展,MEMS代工和MEMS技术的应用变得更加多样化。传感器和执行器已广泛应用于各个领域,并已集成到许多应用中,例如汽车工业,生物医学治疗,消费电子,...
光刻加工的其他技术
2021/07/16
在光刻加工中,扫描探针光刻(SPL) 是另一组使用扫描探针在纳米级图案化到单个原子的技术,通过蚀刻掉不需要的材料,或直接将新材料写入基板上。该类别中的一些重要技术包括蘸笔...
光刻加工的好处
2021/07/16
特征尺寸 在光刻加工中这通常称为最小特征尺寸或临界尺寸 (CD),它是设计的最小部分。可实现的 CD 取决于您使用的光刻类型和您正在图案化的表面的拓扑结构。 对齐 对齐是指两层相...
MEMS加工发展及展望
2021/07/16
自20世纪90年代以来,微流控芯片技术的出现极大促进了微型化操作和分析方法的研究进展。尽管微流控技术只经历了短短30年的发展,其已经从最初单纯的毛细管电泳的微型化技术,演...
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