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行业动态
2026/09/03
从基底到成品:MEMS芯片微纳加工全工艺链路解析
相较于传统集成电路仅聚焦电路制备,MEMS制造核心是在晶圆基底上加工三维微型机械结构,融合半导体工艺与精密机械微加工技术。其完整制程可归纳为四大核心阶段,形成标准化工艺...
2026/08/27
AI赋能半导体微纳加工工艺 开启精准制造新范式
半导体微纳加工是先进芯片制造的核心基石,涵盖光刻、刻蚀、薄膜沉积、精密检测等关键工序,其加工精度已迈入纳米甚至亚纳米级别。随着芯片制程持续迭代,传统微纳加工工艺面...
2026/08/20
权衡与优化:刻蚀工艺中选择比、各向异性与均匀性的平衡策略
刻蚀是微纳制造与半导体加工的核心工艺,其加工精度直接决定器件的良率、性能与稳定性。在刻蚀工艺调控体系中,选择比、各向异性、均匀性是三大核心质控指标,三者相互制约、...
微纳加工技术目前有哪些特点
2021/08/11
基础科学的研究发展往往需要技术科学提供强有力的支持,要想探索在纳米尺度下物质的变化规律、新的性质和器件功能及可能的应用领域,同样离不开相应的技术手段。 微纳加工 技术...
微纳加工技术有什么意义
2021/08/05
博研小编先为大家普及下相关概念。 微纳加工 技术指尺度为亚毫米、微米和纳米量级元件以及由这些元件构成的部件或系统的优化设计、加工、组装、系统集成与应用技术,涉及领域广...
电子束光刻加工应用和参数
2021/07/16
电子束光刻加工图案中的数字线宽与处理后的实际显影特征尺寸之间几乎总是存在差异。这是由抗蚀剂中的电子散射引起的。对于良好表征的过程,数字大小和实际大小之间通常存在固...
电子束光刻加工的三个“度”
2021/07/16
电子束光刻加工的三个度是不常被提及的功绩数字,其实就是在光刻加工中遇到的:解析度、缝合度、叠加度。常常和设备有关。 解析度:电子束光刻的分辨率是可以图案化的特征的最...
光刻加工涉及的材料有哪些
2021/07/16
光刻加工中的抵抗,涉及光刻胶。抗蚀剂是悬浮在溶剂中的聚合物。根据抗蚀剂的类型,可以使用紫外线或电子束选择性地去除它。所有抗性都可以大致分为正抗性或负抗性,其中阳性...
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