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2026/06/04
硅晶圆刻蚀:微纳器件制造的核心精度基石
在半导体与MEMS加工制造产业链中,硅晶圆刻蚀是衔接光刻图案与器件成型的核心工艺,堪称微观世界的精密雕刻刀。作为晶圆加工的关键工序,刻蚀通过精准去除硅片表面多余材料,复...
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2026/05/28
光刻工艺代工:为MEMS、半导体、微纳器件提供可靠图形化方案
在MEMS传感、半导体芯片、微纳器件的制造链条中,光刻图形化是核心关键工序,直接决定器件的尺寸精度、结构完整性与使用性能。作为微纳制造的核心环节,光刻工艺负责将设计图纸...
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2026/05/21
微纳代工中的镀膜服务:从金属到介质膜,均匀致密的薄膜沉积
在微纳代工领域,镀膜服务是衔接基础材料与终端器件的核心环节,其核心目标是通过精准的工艺控制,在基材表面沉积一层或多层均匀致密的薄膜,赋予器件特定的物理、化学或光学...
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微纳加工技术有什么意义
2021/08/05
博研小编先为大家普及下相关概念。 微纳加工 技术指尺度为亚毫米、微米和纳米量级元件以及由这些元件构成的部件或系统的优化设计、加工、组装、系统集成与应用技术,涉及领域广...
电子束光刻加工应用和参数
2021/07/16
电子束光刻加工图案中的数字线宽与处理后的实际显影特征尺寸之间几乎总是存在差异。这是由抗蚀剂中的电子散射引起的。对于良好表征的过程,数字大小和实际大小之间通常存在固...
电子束光刻加工的三个“度”
2021/07/16
电子束光刻加工的三个度是不常被提及的功绩数字,其实就是在光刻加工中遇到的:解析度、缝合度、叠加度。常常和设备有关。 解析度:电子束光刻的分辨率是可以图案化的特征的最...
光刻加工涉及的材料有哪些
2021/07/16
光刻加工中的抵抗,涉及光刻胶。抗蚀剂是悬浮在溶剂中的聚合物。根据抗蚀剂的类型,可以使用紫外线或电子束选择性地去除它。所有抗性都可以大致分为正抗性或负抗性,其中阳性...
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