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公司新闻

2026/10/14

原子级镀膜的＂手艺＂与代工：从原理到落地

原子层沉积是微纳加工领域兼具精准与特色的镀膜技术。它把传统镀膜厚薄难控的粗放方式，改为一层一层垒上去的原子级操作，在追求小尺寸、复杂形貌的微纳器件制造中地位日益...

2026/10/09

一文了解光刻掩膜版技术

在半导体微纳加工制造领域，光刻是实现微米至纳米级图形转移的核心工序，而光刻掩膜版便是承载电路与器件设计图形的核心母版，常被比作芯片制造的精密底片，其精度、缺陷控制...

2026/09/23

等离子体刻蚀：微纳加工干法刻蚀的核心技术

微纳加工技术是半导体芯片、微机电系统、光学器件等高端制造领域的核心基础，而刻蚀工艺作为图形化转移的关键环节，直接决定器件的尺寸精度、结构形貌与性能稳定性。相较于传...

光刻加工的其他技术

2021/07/16

在光刻加工中，扫描探针光刻(SPL) 是另一组使用扫描探针在纳米级图案化到单个原子的技术，通过蚀刻掉不需要的材料，或直接将新材料写入基板上。该类别中的一些重要技术包括蘸笔...

光刻加工的好处

2021/07/16

特征尺寸在光刻加工中这通常称为最小特征尺寸或临界尺寸 (CD)，它是设计的最小部分。可实现的 CD 取决于您使用的光刻类型和您正在图案化的表面的拓扑结构。对齐对齐是指两层相...

MEMS加工发展及展望

2021/07/16

自20世纪90年代以来，微流控芯片技术的出现极大促进了微型化操作和分析方法的研究进展。尽管微流控技术只经历了短短30年的发展，其已经从最初单纯的毛细管电泳的微型化技术，演...

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