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2025/05/08
光刻掩膜板:微纳加工的核心,国产替代的关键突破
引言:光刻掩膜板的技术地位与市场价值 在半导体制造和微纳加工领域,光刻掩膜板(Photomask)被誉为芯片制造的蓝图,其精度直接决定了7nm、5nm等先进制程芯片的性能。随着中国半导...
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2025/05/09
磁控溅射镀膜:MEMS加工中的高精度薄膜制备利器
引言 微机电系统(MEMS)加工技术在现代传感器、执行器、射频器件等领域发挥着关键作用。其中,薄膜沉积工艺是MEMS制造的核心环节之一,而磁控溅射镀膜因其高沉积速率、优异薄膜...
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2025/05/09
离子注入:MEMS微纳加工中的高精度掺杂技术
引言:离子注入在MEMS制造中的关键作用 在MEMS晶圆代工和半导体制造中,离子注入技术是实现高精度掺杂的核心工艺之一。通过高能离子束对半导体材料进行选择性掺杂,可以精准控制...
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光刻掩膜板:微纳加工的核心,国产替代的关键突破
2025/05/08
引言:光刻掩膜板的技术地位与市场价值 在半导体制造和微纳加工领域,光刻掩膜板(Photomask)被誉为芯片制造的蓝图,其精度直接决定了7nm、5nm等先进制程芯片的性能。随着中国半导...
磁控溅射镀膜:MEMS加工中的高精度薄膜制备利器
2025/05/09
引言 微机电系统(MEMS)加工技术在现代传感器、执行器、射频器件等领域发挥着关键作用。其中,薄膜沉积工艺是MEMS制造的核心环节之一,而磁控溅射镀膜因其高沉积速率、优异薄膜...
离子注入:MEMS微纳加工中的高精度掺杂技术
2025/05/09
引言:离子注入在MEMS制造中的关键作用 在MEMS晶圆代工和半导体制造中,离子注入技术是实现高精度掺杂的核心工艺之一。通过高能离子束对半导体材料进行选择性掺杂,可以精准控制...
半导体材料与微纳加工:推动现代电子技术革新的核心动力
2025/04/23
在当今信息技术飞速发展的时代,半导体材料与微纳加工技术已成为推动电子产业进步的两大支柱。从智能手机到物联网设备,从医疗检测到航空航天,这些技术的应用无处不在。本文...
聚焦离子束刻蚀技术在微纳加工中的应用与进展
2025/04/17
微纳加工技术是当今先进制造领域的核心技术之一,广泛应用于半导体微纳加工、MEMS(微机电系统)加工、光学器件及纳米材料制备等领域。其中,聚焦离子束(Focused Ion Beam, FIB)刻蚀...
光刻工艺:微纳加工与MEMS制造的核心技术
2025/05/09
在当今高科技产业中,微纳加工技术是半导体、MEMS(微机电系统)等领域的基础,而光刻工艺则是微纳加工的核心环节之一。光刻技术通过将掩膜版(光刻版)上的图形高精度转移到硅...
半导体材料在哪些领域发挥着关键作用?
2025/04/10
半导体材料是现代科技产业的核心基础,广泛应用于电子、通信、能源、医疗、汽车等多个领域。随着微纳加工技术的进步和微纳代工服务的成熟,半导体材料的应用场景不断拓展,特...
MEMS微纳加工技术:原理、工艺与应用全解析
2025/04/08
微机电系统(MEMS,Micro-Electro-Mechanical Systems)微纳加工技术是一种结合半导体工艺和机械微加工的技术,用于制造微型传感器、执行器及集成化功能器件。其核心在于通过微米/纳米级加...
镀膜工艺有哪几种?应用在哪些领域?
2025/04/01
镀膜工艺是一种通过物理或化学方法在材料表面沉积一层或多层薄膜的技术,以改变基材的表面性能(如光学、电学、机械、耐腐蚀等)。以下是主要镀膜工艺及其应用领域的详细介绍...
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