公司新闻-苏州博研微纳|MEMS代工与微纳加工专家-提供半导体材料及MEMS定制化解决方案

电话：0512-65821886 地址：苏州工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城

微纳加工

首页新闻中心

新闻中心

2025/05/08

光刻掩膜板：微纳加工的核心，国产替代的关键突破

引言：光刻掩膜板的技术地位与市场价值在半导体制造和微纳加工领域，光刻掩膜板（Photomask）被誉为芯片制造的蓝图，其精度直接决定了7nm、5nm等先进制程芯片的性能。随着中国半导...

2025/05/09

磁控溅射镀膜：MEMS加工中的高精度薄膜制备利器

引言微机电系统（MEMS）加工技术在现代传感器、执行器、射频器件等领域发挥着关键作用。其中，薄膜沉积工艺是MEMS制造的核心环节之一，而磁控溅射镀膜因其高沉积速率、优异薄膜...

2025/05/09

离子注入：MEMS微纳加工中的高精度掺杂技术

引言：离子注入在MEMS制造中的关键作用在MEMS晶圆代工和半导体制造中，离子注入技术是实现高精度掺杂的核心工艺之一。通过高能离子束对半导体材料进行选择性掺杂，可以精准控制...

电子束光刻加工的三个“度”

2021/07/16

电子束光刻加工的三个度是不常被提及的功绩数字，其实就是在光刻加工中遇到的：解析度、缝合度、叠加度。常常和设备有关。解析度：电子束光刻的分辨率是可以图案化的特征的最...

光刻加工的好处

2021/07/16

特征尺寸在光刻加工中这通常称为最小特征尺寸或临界尺寸 (CD)，它是设计的最小部分。可实现的 CD 取决于您使用的光刻类型和您正在图案化的表面的拓扑结构。对齐对齐是指两层相...

光刻加工涉及的材料有哪些

2021/07/16

光刻加工中的抵抗，涉及光刻胶。抗蚀剂是悬浮在溶剂中的聚合物。根据抗蚀剂的类型，可以使用紫外线或电子束选择性地去除它。所有抗性都可以大致分为正抗性或负抗性，其中阳性...

MEMS加工发展及展望

2021/07/16

自20世纪90年代以来，微流控芯片技术的出现极大促进了微型化操作和分析方法的研究进展。尽管微流控技术只经历了短短30年的发展，其已经从最初单纯的毛细管电泳的微型化技术，演...

13

末页