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2026/03/06
为什么MEMS器件偏爱SOI片?浅谈SOI在键合与掺杂中的优势
在MEMS的世界里,小巧而强大是核心追求从手机里的加速度传感器,到医疗领域的微型超声换能器,再到航天设备中的惯性导航器件,这些毫米甚至微米级的器件,对基底材料的要求近乎...
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2026/02/28
微纳加工核心揭秘:光刻工艺,方寸之间的“雕刻魔法”
很多人对光刻工艺的认知局限于“曝光显影”,实则它是集光学、化学、材料学于一体的精密过程。其核心任务,是利用曝光和显影技术在光刻胶层刻画预设图形,再通过刻蚀工艺将光...
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2026/02/10
刻蚀工艺的关键挑战:选择比、均匀性与损伤控制
刻蚀作为半导体制造中图形转移的核心工序,如同精细的微观雕刻,需将光刻定义的图案精准复刻至衬底材料,其工艺精度直接决定器件性能与良率。随着摩尔定律持续推进,器件线宽...
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电子束光刻加工的三个“度”
2021/07/16
电子束光刻加工的三个度是不常被提及的功绩数字,其实就是在光刻加工中遇到的:解析度、缝合度、叠加度。常常和设备有关。 解析度:电子束光刻的分辨率是可以图案化的特征的最...
光刻加工的好处
2021/07/16
特征尺寸 在光刻加工中这通常称为最小特征尺寸或临界尺寸 (CD),它是设计的最小部分。可实现的 CD 取决于您使用的光刻类型和您正在图案化的表面的拓扑结构。 对齐 对齐是指两层相...
光刻加工涉及的材料有哪些
2021/07/16
光刻加工中的抵抗,涉及光刻胶。抗蚀剂是悬浮在溶剂中的聚合物。根据抗蚀剂的类型,可以使用紫外线或电子束选择性地去除它。所有抗性都可以大致分为正抗性或负抗性,其中阳性...
MEMS加工发展及展望
2021/07/16
自20世纪90年代以来,微流控芯片技术的出现极大促进了微型化操作和分析方法的研究进展。尽管微流控技术只经历了短短30年的发展,其已经从最初单纯的毛细管电泳的微型化技术,演...
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