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2025/07/10
晶圆镀膜:半导体微纳加工的关键技术
在半导体制造和微纳加工领域,晶圆镀膜是一项至关重要的工艺。它通过在晶圆表面沉积一层或多层薄膜,赋予晶圆特定的电学、光学或机械性能,从而满足集成电路(IC)、MEMS(微机...
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2025/07/04
微纳代工技术:重塑集成电路制造的未来
集成电路(IC)制造是信息时代的基石,而微纳代工技术的崛起正在深刻改变这一行业。随着半导体工艺节点不断向更小的纳米级(如7nm、5nm、3nm)推进,传统的IDM模式逐渐向Fabless(无...
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2025/07/01
晶圆尺寸的演变与半导体制造的革命
在半导体工业的发展历程中,晶圆尺寸的演变是一条贯穿始终的重要线索。从早期的4英寸(约100mm)到如今主流的12英寸(约300mm),晶圆尺寸的每一次演变都代表着半导体制造技术的重大突破...
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光刻板的成本有多高?
2022/04/13
随着半导体晶圆制程技术的飞速发展,半导体制造厂持续遵循摩尔定律,不断挑战更先进的制程。而谈到先进制程,很多芯片设计公司的第一反应都是光刻板很贵,动辄几十万到百万美...
第三代半导体材料可以用在哪些地方
2022/04/13
据博研了解,第三代 半导体材料 目前主要可以应用于光电、电力电子、以及微波射频三大领域,其中光电领域是到目前为止应用最成熟的领域,不仅有着高达数千亿美元的规模,更是一...
光刻板与光刻工艺有什么关联
2022/03/28
光刻刻蚀工艺是和照相、蜡纸印刷比较接近的一种多步骤的图形转以过程。开始将电路设计转化成器件和电路的各个部分的三个维度。接下来绘出X-Y的尺寸、形状和表面对准的复合图。...
第三代半导体材料的典型代表有哪些
2022/03/28
进入21世纪以来,随着摩尔定律的失效大限日益临近,寻找 半导体材料 替代品的任务变得非常紧迫。在多位选手轮番登场后,有两位脱颖而出,它们就是氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC)并称为第...
揭秘丨半导体的微纳加工全流程
2022/03/28
每个半导体产品的制造都需要数百个 微纳加工 工艺,博研将整个制造过程分为八个步骤:晶圆加工-氧化-光刻-刻蚀-薄膜沉积-互连-测试-封装。 第一步 晶圆加工 所有半导体工艺都始于...
6大主要的MEMS加工工艺
2022/03/24
硅微机械加工工艺是制作微传感器、微执行器 和 MEMS 的主流技术 ,是近年来随着集成电路工艺 发展起来的 ,它是离子束、电子束、分子束、激光束和 化学刻蚀等用于微电子加工的技术...
光刻板的技术含量高不高
2022/03/23
博研给大家强调一下, 光刻板 是整个芯片的机密所在,没有光刻板,光刻机是无法准确加工芯片的。拿走光刻板,就可以复制任何公司的芯片,就像拿走印钱的电板可以制造逼真的假钱...
第三代半导体材料的优势及应用有哪些
2022/03/23
博研发现随着化合物半导体制造产业的不断发展,到目前为止,第一代、第二代半导体材料工艺已经逐渐达到物理天花板,想要突破目前技术瓶颈,只能从第三代半导体材料入手,而且...
MEMS加工工艺中的表面牺牲层工艺研究
2022/03/22
在 MEMS加工 制备过程中,开关梁作为具有极低间隙的悬浮部件,保证其完整释放十分重要。制备了以聚酰亚胺为牺牲层的低下拉电压开关,采用反应离子刻蚀(RIE)技术对牺牲层进行刻...
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