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微纳加工
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2026/07/17
面向多材质加工的MEMS代工RIE刻蚀工艺参数优化方案
随着MEMS器件向集成化、多功能化方向发展，多材质复合结构加工已成为代工生产的主流需求。反应离子刻蚀（RIE）作为MEMS制造的核心干法刻蚀工艺，凭借各向异性强、刻蚀精度高、工艺...
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2026/07/09
低成本高效率，湿法腐蚀在MEMS代工中的实用价值
在MEMS代工行业规模化、低成本化的发展趋势下，工艺技术的选型直接决定了代工产能、生产成本与交付效率。湿法腐蚀作为微纳加工的核心基础工艺，凭借设备简易、成本低廉、可批量...
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2026/07/01
从流片到成品，MEMS全制程代工服务深度解析
相较于传统集成电路制程，MEMS器件制造兼顾微电子工艺与精密机械结构加工，制程复杂度更高、工艺定制性更强。全制程代工服务覆盖从流片设计适配、晶圆制造、后段加工到成品测试...
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电子束光刻加工应用和参数
2021/07/16
电子束光刻加工图案中的数字线宽与处理后的实际显影特征尺寸之间几乎总是存在差异。这是由抗蚀剂中的电子散射引起的。对于良好表征的过程，数字大小和实际大小之间通常存在固...
电子束光刻加工的三个“度”
2021/07/16
电子束光刻加工的三个度是不常被提及的功绩数字，其实就是在光刻加工中遇到的：解析度、缝合度、叠加度。常常和设备有关。 解析度：电子束光刻的分辨率是可以图案化的特征的最...
光刻加工的好处
2021/07/16
特征尺寸 在光刻加工中这通常称为最小特征尺寸或临界尺寸 (CD)，它是设计的最小部分。可实现的 CD 取决于您使用的光刻类型和您正在图案化的表面的拓扑结构。 对齐 对齐是指两层相...
光刻加工涉及的材料有哪些
2021/07/16
光刻加工中的抵抗，涉及光刻胶。抗蚀剂是悬浮在溶剂中的聚合物。根据抗蚀剂的类型，可以使用紫外线或电子束选择性地去除它。所有抗性都可以大致分为正抗性或负抗性，其中阳性...
MEMS加工发展及展望
2021/07/16
自20世纪90年代以来，微流控芯片技术的出现极大促进了微型化操作和分析方法的研究进展。尽管微流控技术只经历了短短30年的发展，其已经从最初单纯的毛细管电泳的微型化技术，演...
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